原料：3%~5%（30~50g/L）濃度食鹽水
用途：殺菌消毒、環(huán)境保護（次氯酸鈉發(fā)生器，標準：有效率濃度0.9524g）
生產工藝：無隔膜電解法
次氯酸鹽電解槽用涂層陽極有時會受到以Mg(OH)2為主要成分的沉淀的影響，當陽極暴露于沉淀中時，鈦基體就會發(fā)生堆積腐蝕，此時可通過倒極除垢。
用于衛(wèi)生消毒（另為環(huán)境保護）的次氯酸鈉發(fā)生器不能采用石墨電極和二氧化鉛電極。
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原料：3%~5%（30~50g/L）濃度食鹽水
用途：殺菌消毒、環(huán)境保護（次氯酸鈉發(fā)生器，標準：有效率濃度0.9524g）
生產工藝：無隔膜電解法
次氯酸鹽電解槽用涂層陽極有時會受到以Mg(OH)2為主要成分的沉淀的影響，當陽極暴露于沉淀中時，鈦基體就會發(fā)生堆積腐蝕，此時可通過倒極除垢。
用于衛(wèi)生消毒（另為環(huán)境保護）的次氯酸鈉發(fā)生器不能采用石墨電極和二氧化鉛電極。
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